通知 | 北京市知识产权信息中心公开征集知识产权分析课题研究单位的公告

为助力北京市集成电路ALD(Atomic Layer Deposition)装备企业及超细粉设备企业技术创新，北京市知识产权信息中心决定面向社会公开征集《集成电路ALD装备技术专利跟踪分析》和《超细粉设备专利跟踪分析》课题研究单位。现将有关事项公告如下：
一、申请条件
（一）申请单位须是北京地区的知识产权代理机构、高校院所、企事业单位和行业协会，不面向个人；
（二）申请单位须具有相关领域专利分析课题的研究经验和研究成果；
(三）三年以上运营资历，具有独立承担民事责任和履行合同能力，具有良好的商业信誉和健全的工作管理制度，有依法缴纳税收的良好记录。
二、申请时间及方式
（一）申请时间：从此公告发出之日起，截至2015年9月16日18时止；
（二）申请方式： 申请单位针对两个课题分别填写《北京市知识产权信息中心课题研究项目申报书》，发送至邮箱：mx5160169@163.com，邮件主题注明“专利跟踪分析课题申请”。
（三）联系人：周美霞 010-82356446转830
付占海 010-82356446转808
三、研究内容及要求
（一）《集成电路ALD装备技术专利跟踪分析》
摸清集成电路ALD(Atomic Layer Deposition)装备技术市场情况，检索获得相关专利，通过对专利数据的加工分析，了解该技术潜在市场分布情况，了解目前研究热点，为企业研发立项确定技术发展方向，确定潜在的合作伙伴和竞争对手，评估立项的知识产权风险，制定风险防范预案。最终形成能够有效指导企业研发活动的专利跟踪分析报告。
（二）《超细粉设备专利跟踪分析》
检索超细粉设备相关专利文献，通过专利分析了解该技术国内外的发展状况, 专利态势与市场分布情况，主要竞争对手动态，为企业立项研发确定研发方向，形成研究报告。
（三）课题负责人须具有较强的组织协调能力，有较高的理论素养、较宽的国际视野和分析解决问题的能力，能够保证全过程担负实质性研究工作；课题团队的人员结构和专业配置须规模适度、结构合理，与课题研究的内容和要求相适应；
（四）进度要求
课题研究时间2015年9月至12月。
四、北京市知识产权信息中心将根据报名及提交材料情况，组织专家对材料进行评审，择优确定承担单位，并签订研究课题合作协议书。

附件：北京市知识产权信息中心课题研究项目申报书

北京市知识产权信息中心
2015年9月10日

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来源：北京市知识产权局